半導体フォトレジストのトップとして新たな成長ステージを目指す
東京応化工業は、1940年に化学薬品メーカーとしてスタート。高純度化学薬品の製造ノウハウを活かし、日本で初めて半導体用のポジ型フォトレジスト(感光性樹脂)の開発に成功した。以来フォトレジストを主力製品として、国内・海外ともにトップシェアを占めるまでに成長している。さらに現在は、フラットパネルディスプレイ製造装置などのプロセス機器も手がけ、1,000種類以上の製品をラインアップしている。
2006年5月に、第3次中期計画「tokチャレンジ21」を発表した。半導体フォトレジストをドライビングフォースとして、新たな成長ステージへの展開を急いでいる。





