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1950年生まれ。東京理科大学理学部応用化学科卒。74年東京応化工業入社。電子材料の製造を経験後、千葉大学にてフォトレジストの共同研究に参加。93年オーカ・アメリカ・インコーポレーテッド(現・トウキョウ・オーカ・コウギョウ・アメリカ・インコーポレーテッド)取締役、2001年東京応化工業取締役、2003年取締役兼執行役員開発本部長、2004年6月より現職。
技術者として、管理者として、その経験を糧に
半導体製造分野では、100万分の1ミリメートル単位での微細な加工が求められている。
こうしたナノメートルの世界で高度な微細加工技術を発揮する東京応化。
現在は半導体フォトレジストをドライビングフォースに新たな地平の開拓を目指す。
これまでの成長を支え、これからの躍進を担っているのが53歳という若さでトップに就任した中村洋一社長である。





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